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III族氮化物半导体的制造方法

发明专利未知
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9权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

八川春香; 藤森拓; 守山实希

申请日

Apr 8, 2026

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

C30B 29/40 (2006.01)C30B 9/12 (2006.01)

本发明提供一种能够得到结晶品质优异的高电阻的III族氮化物半导体的III族氮化物半导体的制造方法。该III族氮化物半导体的制造方法中,将使III族金属熔化在助熔剂中而得的熔液保持在坩埚(103)中,并向熔液中供给含氮气体来培育III族氮化物半导体。而且,在III族氮化物半导体的制造方法中使用的坩埚(103)以氧化铝为主成分,并且含有P型掺杂剂。