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面外位移测量方法、装置、设备、存储介质及程序产品
发明专利未知
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10权利要求 · 5 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
宋俊磊; 张岩; 周蓓; 张传科; 董凯锋; 晋芳; 莫文琴
申请日
Sep 14, 2026
公开日
Oct 16, 2026
IPC 分类
G01B 11/02 (2006.01)
本申请公开了一种面外位移测量方法、装置、设备、存储介质及程序产品,涉及结构健康监测技术领域,包括:采集待测对象表面的光栅标记在第一时刻的参考莫尔条纹图和第二时刻的目标莫尔条纹图;分别计算参考莫尔条纹图和目标莫尔条纹图各自的莫尔条纹相位,确定各自的莫尔条纹相位沿图像水平方向的变化率,得到参考莫尔条纹图的参考相位梯度和得到目标莫尔条纹图的目标相位梯度;确定目标相位梯度相对于参考相位梯度的相位梯度变化量;根据预设的灵敏度系数和相位梯度变化量,得到待测对象的面外位移,其中,面外位移为待测对象沿相机光轴方向的位移量。本申请面外位移的测量精度高、计算复杂度低。
§ Ⅵ
专利附图
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