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光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法

发明专利未知
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

訾安仁; 张庆裕

申请日

Nov 26, 2020

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

G03F 7/004 (2006.01)G03F 7/20 (2006.01)H10P 76/20 (2026.01)

本发明涉及光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法。所述用于形成光致抗蚀剂图案的方法包括在基板上形成包含光致抗蚀剂组合物的光致抗蚀剂层。所述光致抗蚀剂组合物包括金属粒子和附接到所述金属粒子的热稳定配体。所述热稳定配体包含支链或非支链、环状或非环状的C1‑C7烷基或C1‑C7氟代烷基。所述C1‑C7烷基或C1‑C7氟代烷基包含以下中的一者或多者:‑CF、‑SH、‑OH、=O、‑S‑、‑P‑、‑PO、‑C(=O)SH、‑C(=O)OH、‑C(=O)O‑、‑O‑、‑N‑、‑C(=O)NH、‑SOOH、‑SOSH、‑SOH,或‑SO‑。