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具有高频低介损特性的负性光敏聚酰亚胺树脂组合物及用途

发明专利未知
10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

杨士勇; 杨进平; 张俊武

申请日

Sep 9, 2026

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

G03F 7/004 (2006.01)G03F 7/038 (2006.01)C08G 73/12 (2006.01)

本发明属于高分子材料技术领域,具体涉及具有高频低介损特性的负性光敏聚酰亚胺树脂组合物及用途。包括如下质量份的组分混合而成:光交联性聚酰胺酸酯树脂、溶剂、光固化交联剂、光敏剂、光敏促进剂、热交联剂、低温固化促进剂、阻聚剂、铜变色抑制剂、助粘剂和增韧剂。本发明负性光敏聚酰亚胺树脂组合物,具有优良的光刻工艺性,可通过旋转涂敷在6‑12吋硅晶圆表面形成厚度均匀的液态胶膜;该液态胶膜经前烘、曝光、显影、漂洗、加热固化形成树脂薄膜具有高频下低介电常数及低介损的特点,同时还具有优良的综合力学性能、耐湿热性、耐化学浸蚀性及与铜面的高粘结性等特性,适用于制作高频集成电路多层金属互连结构的层间介质绝缘层膜。

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