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测量方法、程序、光刻方法、物品的制造方法和光刻装置

发明专利未知
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14权利要求 · 5 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

吉冈泰智; 日置真则; 滨崎恭考

申请日

Apr 1, 2026

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

G03F 7/20 (2006.01)

本公开涉及测量方法、程序、光刻方法、物品的制造方法和光刻装置。是测量将搭载于载物台的原版图案转印到基板的光刻装置中的、原版相对载物台的位置偏移的测量方法。包括使用标记检测部在第1视野检测将原版搭载于载物台的状态下载物台的基准标记的第1检测工序、使标记检测部相对载物台移动并用标记检测部在与第1视野不同的第2视野检测原版的原版标记的第2检测工序、使标记检测部与载物台相对移动并使用标记检测部在与第1、2视野不同的第3视野检测载物台校正标记的第3检测工序、从第1‑3检测工序检测结果取得关于标记检测部的位置偏移的信息的取得工序、基于取得的关于标记检测部的位置偏移的信息决定原版相对载物台的位置偏移的决定工序。