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研磨带和磁记录介质的制造方法

发明专利未知
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5权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

山川步; 芳山高志朗; 福岛康生

申请日

Mar 30, 2026

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

G11B 5/84 (2006.01)G11B 5/716 (2006.01)G11B 5/708 (2006.01)B24B 21/18 (2006.01)B24B 21/04 (2006.01)B24B 1/00 (2006.01)

本发明的目的在于提供能够提高磁记录介质的生产性的研磨带。一种研磨带,其在支持体上,具有平均一次粒径为10nm以上40nm以下,并且平均二次粒径为50nm以上200nm以下的氧化铝作为磨粒。