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一种高致密度硼化钨基γ射线和中子复合屏蔽材料及其制备方法
发明专利未知
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
罗蓉蓉; 李鹏远; 张腾; 朱洪锋; 付海英; 魏海鸿; 孙林煜
申请日
Jul 24, 2026
公开日
Oct 16, 2026
IPC 分类
G21F 1/08 (2006.01)C22C 29/14 (2006.01)C22C 1/051 (2023.01)B22F 9/04 (2006.01)B22F 3/14 (2006.01)
本发明公开一种高致密度硼化钨基γ射线和中子复合屏蔽材料及其制备方法,所述复合材料,按质量百分比计,包括如下组分:硼化钨粉体80~95%、稀土氧化物粉体3~20%、金属活化助烧剂0.5~8%;所述金属活化助烧剂选用Ni、Cr、Fe、Co中的至少一种。本发明通过引入特定单质金属粉末作为金属活化助烧剂,能够在烧结早期形成瞬时液相或高扩散界面层,增强颗粒润湿和重排能力,改善硼化钨颗粒与稀土氧化物颗粒之间的界面结合状态,保证了引入稀土氧化物提高材料屏蔽性能的同时实现充分致密化,从而显著提高材料的致密度、屏蔽性能和综合力学性能。
§ Ⅵ
专利附图
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