CNIPA.AI
返回搜索
档案

用于减少寄生等离子体的装置和具有其的衬底处理设备

发明专利未知
18浏览
14权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

金大渊; 金钟随

申请日

Apr 1, 2026

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

H01J 37/32 (2006.01)

在本公开的一个实施例中,一种用于减少寄生等离子体的装置包括:气体歧管;气体通道;以及绝缘体,其位于气体歧管和气体通道之间,以将气体通道与气体歧管电隔离,其中气体歧管是金属的并且接地以减少气体歧管内的寄生等离子体。