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阴极材料和形成方法
发明专利未知
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
M·A·S·劳伦特; A·施拉兹-阿明; 高木裕登; 赖政宏; 千甲秀
申请日
Dec 28, 2023
公开日
Oct 16, 2026
IPC 分类
H01M 4/36 (2006.01)H01M 4/62 (2006.01)H01M 10/052 (2010.01)H01M 10/054 (2010.01)H01M 10/0562 (2010.01)
本申请涉及阴极材料和形成方法。一种阴极材料可包括包含活性阴极材料的基底和覆盖该基底的至少一部分的涂层。该涂层材料可包含CF和MCO，其中M可包含碱金属。在一个具体实施方案中，该涂层可包含MF。在另一个具体实施方案中，M可包含Li。