一种用于改善等离子体射流均匀性的腔体装置及其使用方法

本发明公开了一种用于改善等离子体射流均匀性的腔体装置及其使用方法，涉及等离子体技术领域。该装置包括进气管、凸字型腔体和出气管，进气管连接于腔体较小端，出气管连接于腔体较大端并设有双排交错排列的17个出气管，出气管上配置高压电极和接地电极，腔体内设有挡板以优化气流均匀性。高压电极与接地电极通过导电铜环及铜导电胶带连接，外部电源采用纳秒脉冲电源驱动。通过COMSOL仿真优化挡板位置(距进气口0.04±0.005m)和尺寸(0.035×0.02m)，结合引流电极设计，本发明显著提升了等离子体射流阵列的均匀性和稳定性，适用于材料表面处理。