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半导体石墨烯-碳化硅二极管及其制备方法、应用

发明专利未知
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10权利要求 · 3 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

马雷; 田昊; 郝路珍; 刘赛萌

申请日

Sep 14, 2026

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

H10D 8/00 (2025.01)H10D 8/01 (2025.01)H10D 8/60 (2025.01)H10D 62/822 (2025.01)

本发明提出了一种半导体石墨烯‑碳化硅二极管及其制备方法、应用,属于半导体材料与器件技术领域。该半导体石墨烯‑碳化硅二极管包括碳化硅衬底和半导体石墨烯层。具体地,半导体石墨烯层通过外延生长工艺直接形成于碳化硅衬底的表面,半导体石墨烯层与碳化硅衬底之间通过共价键结合。其中,半导体石墨烯层与碳化硅衬底在垂直结合面的方向上形成异质结,半导体石墨烯层和碳化硅衬底分别构成半导体石墨烯‑碳化硅二极管的阳极和阴极,该半导体石墨烯‑碳化硅二极管为垂直型二极管。