一种图像传感器沟槽隔离结构及其形成方法

本发明公开了一种图像传感器沟槽隔离结构及其形成方法，所述的图像传感器包括感光像素区与遮黑像素区，在感光像素区边缘和/或遮黑像素区形成具有第二深度的深沟槽隔离结构，在感光像素区形成具有第一深度的深沟槽隔离结构，且第二深度大于第一深度。可通过单光罩同步刻蚀，无需额外增加光罩或工艺步骤，兼容现有工艺，或双光罩分步刻蚀制备。本发明能有效阻挡杂散光泄漏和寄生光干扰对遮黑像素的影响，保证遮黑像素的黑电平信号准确，改善画质，兼顾成本与性能，适配多种成像场景。