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一种基于梯度硒化的PdSe/Si光电探测器及其制备方法
发明专利未知
10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
杨志博; 陈云辉; 王向涛; 郑岩岩; 强克迪; 古瑞琴; 张小水
申请日
Jul 22, 2026
公开日
Oct 16, 2026
IPC 分类
H10F 71/00 (2025.01)H10F 30/222 (2025.01)H10P 14/20 (2026.01)
本发明属于半导体光电探测技术领域,公开了一种基于梯度硒化的PdSe/Si光电探测器及其制备方法,解决直接高温硒化工艺导致探测器性能较差的技术问题。通过(1)将硅晶圆划切及清洗后,设置掩模板,镀钝化层;然后更换掩模板图案,进一步镀钯层,得到镀钯层后的硅片;(2)在步骤(1)得到镀钯层后的硅片进行梯度硒化,得到硒化后的硅片;(3)在步骤(2)硒化后的硅片上制备金属薄膜层,经封装后得到基于梯度硒化的PdSe/Si光电探测器。采用“低温成核+高温生长”的梯度硒化策略,通过调控Se分压与温度窗口,实现Se空位有效补偿,晶体有序化生长,界面态密度降低从而显著提升PdSe/Si光伏探测器的自供电性能与探测性能。
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