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一种用于红外光电探测器的IAI电极及其制备方法

发明专利未知
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

彭少杰; 付赵伟; 邓立儿; 刘欢

申请日

Jun 24, 2026

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

H10F 77/20 (2025.01)H10F 71/00 (2025.01)H10F 77/14 (2025.01)H10F 77/30 (2025.01)H10F 30/21 (2025.01)

本发明公开了一种用于红外光电探测器的IAI电极及其制备方法,属于量子点光电探测器技术领域。所述用于红外光电探测器的IAI电极,从下至上依次包括:底层ITO、中间Ag膜层、顶层ITO;其中:底层ITO与基底接触;顶层ITO与空气接触;底层ITO的厚度为50~70nm、中间Ag膜层的厚度为4~6nm、顶层ITO的厚度为140~160nm。本发明中通过调控IAI电极中底层ITO、中间Ag膜层、顶层ITO三者的厚度在特定的范围内,使IAI电极在红外波段具有高透过率和较低方阻,可显著提高含IAI电极的红外探测器的综合性能。