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衬底处理装置及衬底处理方法
发明专利未知
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8权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
石井弘晃; 安武阳介; 石川道明; 奥村慎一郎; 石井淳一; 船桥和雅; 阿部寿洋
申请日
Apr 2, 2026
公开日
Oct 16, 2026
IPC 分类
H10P 72/00 (2026.01)B08B 13/00 (2006.01)B08B 11/00 (2006.01)H10P 72/30 (2026.01)H10P 70/00 (2026.01)
第1搬送机构将附有框架的衬底从第1附有框架的衬底收容部搬送到第1衬底载置部(步骤S1)。第2搬送机构将附有框架的衬底从第1衬底载置部搬送到处理单元(步骤S2),在处理单元中进行清洗处理(步骤S3)。第1搬送机构将处理后的附有框架的衬底从第1衬底载置部搬送到第2衬底载置部(步骤S4)。第1搬送机构将以第2衬底载置部储存的处理后的附有框架的衬底从第2衬底载置部搬送到第2附有框架的衬底收容部(步骤S5)。