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基片液处理装置和基片液处理方法

发明专利未知
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8权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

中岛干雄; 田中明贤; 绪方信博; 宫本勋武

申请日

May 12, 2021

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

H10P 72/00 (2026.01)

本发明提供有利于检测处理液的泄漏等不良情况的发生的基片液处理装置和基片液处理方法。基片液处理装置包括:供处理液流动的液配管;释放嘴,其释放经由液配管供给的处理液;阀机构,其调节液配管中的处理液的流动;和液检测传感器,其检测液配管中是否存在处理液。在阀机构工作以使液配管中的处理液位于比液配管的第一配管测量部位靠上游处的状态下,液检测传感器检测在位于第一测量点的第一配管测量部位是否存在处理液。