一种单片式晶圆的清洗装置及方法

本发明公开一种单片式晶圆的清洗装置及方法，其包括环形真空吸液组件，其设置于待清洗晶圆的上方，且与待清洗晶圆的边缘在水平方向存在第一距离。该环形真空吸液组件包括本体，其本体包括环形气液腔及真空吸嘴，环形气液腔设置于本体的内部，与外部连通，且与环形真空吸液组件共轴，真空吸嘴设置于本体的底部，且与环形气液腔连通，真空吸嘴用于吸收晶圆表面的废液。该清洗装置采用非接触式方式吸收废液，不存在磨损问题。且其不会跟随卡盘一起旋转，故转轴系统的负载轻、转动惯量小。通过真空吸取可以对清洗废液进行完全吸收，同时无需额外设置的挡圈，简化了结构。