再分布层的制造方法

一种再分布层的制造方法，包括：第一曝光步骤，对支撑基板的第一主表面上的负性感光材料层以预定图案进行曝光；第二曝光步骤，从支撑基板的第二主表面侧，对负性感光材料层在其整个表面进行曝光；显影步骤，对经曝光的负性感光材料层显影，以形成第一绝缘层，该第一绝缘层在第二主表面上具有凹部图案；以及第一布线层形成步骤，在第一绝缘层的第二主表面上形成第一布线层；以及分离步骤，从支撑基板的第二主表面侧向第一绝缘层照射光，以将第一绝缘层从支撑基板分离。