返回搜索
档案
质谱分析中干扰的预测方法及装置
发明专利未知
7浏览
19权利要求 · 3 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
板垣隆之; 山中理子; G·伍兹; 杉山尚树; 近藤贤志; 生驹美里
申请日
Mar 12, 2025
公开日
Oct 16, 2026
IPC 分类
G01N 27/626 (2021.01)H01J 49/10 (2006.01)
提供了一种在采用电感耦合等离子体质谱装置的质谱分析方法中的质谱干扰的预测方法。根据本发明:从数据库中选择质谱分析方法和相关联的响应因子,所述数据库中存储有各自指定了质谱分析条件的多个质谱分析方法以及针对每个质谱分析方法的响应因子,所述响应因子指示元素与所述元素的信号强度之间的相关关系;从应用库中选择应用,所述应用库中收集有指定了元素的种类和含量的应用;估算指示所选应用中指定的各元素的信号强度以及指示各元素对应的干扰成分的信号强度;并且显示针对各元素预测的质谱干扰。