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掩模用组合物以及刻蚀加工用掩模

发明专利未知
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9权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

加藤昌央; 白鸟仁朗

申请日

Mar 27, 2025

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

H10P 50/00 (2026.01)

提供一种关于能够形成膜更厚的掩模的掩模用组合物的技术。本发明的一个方式为掩模用组合物。该掩模用组合物具有金属氢氧化物和溶剂。所述金属氢氧化物分散或溶解于所述溶剂。