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一种基于边缘耦合导光抛光垫的光催化抛光装置及方法
发明专利未知
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§ Ⅰ
卷宗概要
IPC 分类
B24B 37/10 (2012.01)H10P 52/40 (2026.01)B24B 1/00 (2006.01)B24B 37/04 (2012.01)
本发明公开了一种基于边缘耦合导光抛光垫的光催化抛光装置,包括抛光盘和固定设置于所述抛光盘表面的抛光垫,所述抛光垫的上方设置有至少一组可相对其上下移动的抛光头,所述抛光垫的侧面边缘处沿其周线设置有环形光源阵列,所述环形光源阵列由多个可独立控制的光源组成,所述抛光垫的表面设置有多个沟槽,且所述沟槽的两个侧面均为倾斜状。本发明还公开了一种基于边缘耦合导光抛光垫的光催化抛光方法。通过将抛光垫作为光波导介质,光源由抛光垫的边缘横向引入并从抛光界面的微型沟槽向上溢出,彻底解决了载片头对光线的遮挡问题,保证了碳化硅晶圆全表面持续受到均匀的光催化与光流变激发。