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一种光电忆阻器用MoS量子点的制备方法

发明专利未知
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3权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

高晶晶; 王星辰; 耿朋辉; 陈卓; 陈瑞祥

申请日

Apr 14, 2025

公开日

Oct 20, 2026

IPC 分类

C01G 39/06 (2006.01)H10N 70/00 (2023.01)B82Y 20/00 (2011.01)B82Y 40/00 (2011.01)C09K 11/68 (2006.01)

本发明涉及纳米生物材料技术领域,具体涉及一种光电忆阻器用MoS量子点的制备方法。其采用的制备方法为:采用钼源与硫脲作为反应物,采用去离子水作为溶剂,盐酸或氨水调节溶液pH,转移至高压反应釜,密封后置于烘箱进行反应,结束后充分冷却至室温,使用去离子水反复冲洗去除残留离子,利用离心机分离出MoS,真空烘干得到MoS粉末;将MoS粉末和去离子水加入离心管中进行混合,然后将离心管置于双层烧杯中,设定循环冷却水温度为18°C,将混合好的溶液进行超声破碎,得到反应液;得到的反应液再低速离心处理得到上清液即可。本发明方法制备的MoS量子点具有尺寸均匀、纯度高以及工艺可控性强的特点。

§ Ⅵ

专利附图

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