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一种抗UV耐候PMMA材料

发明专利未知
7权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

王友林; 曾嗣恩

申请日

Jun 30, 2026

公开日

Oct 20, 2026

IPC 分类

C08L 33/12 (2006.01)C08F 220/14 (2006.01)C08F 220/38 (2006.01)C08F 220/50 (2006.01)C07C 255/41 (2006.01)C07C 253/30 (2006.01)

本发明公开了一种抗UV耐候PMMA材料及其制备方法,属于高分子材料技术领域。所述抗UV耐候PMMA材料,包括以下组分:聚甲基丙烯酸甲酯、改性共聚物和助剂。所述改性共聚物由烯丙基氰乙酸酯与苯甲醛经Knoevenagel缩合反应得到2‑氰基‑3‑苯基丙烯酸烯丙酯(SCA),再与2‑萘硫乙基丙烯酸酯(NTEA)及甲基丙烯酸甲酯经自由基三元共聚反应制得。SCA与NTEA在特定比例范围内,NTEA硫醚键的抗氧化保护与SCA的光能转化形成协同,使材料的紫外防护性能和抗氧化性取得了预料不到的技术效果。通过共价键将功能基团永久性锚定于聚合物主链,从根本上避免了小分子紫外吸收剂的迁移问题。

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