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一种放射性厂房用新型带电可剥离膜去污剂及其制备方法

发明专利未知
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10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

甄晓彤; 罗倩; 周成龙; 杜改平; 张坤; 孙晓星

申请日

Sep 16, 2026

公开日

Oct 20, 2026

IPC 分类

C09D 175/04 (2006.01)C09D 5/20 (2006.01)C09D 7/62 (2018.01)C09D 7/63 (2018.01)C09D 7/65 (2018.01)G21F 9/00 (2006.01)C11D 1/14 (2006.01)C11D 3/12 (2006.01)C11D 3/20 (2006.01)C11D 3/33 (2006.01)C11D 3/60 (2006.01)C11D 17/04 (2006.01)

本发明属于放射性污染去污技术领域,具体涉及一种放射性厂房用新型带电可剥离膜去污剂及其制备方法。去污剂的原料包括基础液态去污剂、带电纳米材料、成膜基材、辅助成分;基础液态去污剂包括水、表面活性剂、络合剂。本发明具有成膜时间短,去污效率高,成膜强度高的优点,且制备过程较简单,使用简单,所剥离膜可直接处理,无二次污染,适配于放射性厂房环境。