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一种高折射率对比度可图案化长余辉光子晶体的制备方法及应用

发明专利未知
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14权利要求 · 9 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

刘小网; 车檬芬; 李高强; 宋孟颖

申请日

Jun 30, 2026

公开日

Oct 20, 2026

IPC 分类

C09K 11/65 (2006.01)B42D 25/36 (2014.01)B23K 26/362 (2014.01)C09K 11/56 (2006.01)C09K 11/06 (2006.01)

本发明提供了一种高折射率对比度可图案化长余辉光子晶体的制备方法及应用,解决目前材料光学信息单一以及光子晶体微球与介质间折射率对比度较小、结构色较暗且难以图案化信息存储的技术问题。本发明设计并合成一种具有“核@复合壳层@外壳”结构的复合微球,利用该微球自组装成光子晶体后,通过激光刻蚀选择性加工实现图案化。该方法采用湿化学法制备单分散的ZnS纳米颗粒,经改进的Stöber法在ZnS颗粒表面生长SiO壳层,并利用水热反应将发光分子封装于SiO壳层内,随后在最外层包覆未掺杂的SiO层,最终得到核壳结构的ZnS@发光分子掺杂SiO@SiO复合微球。