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轴承零件残余奥氏体控制与碳氢清洗一体化方法及装置

发明专利未知
10权利要求 · 8 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

张春宝; 曹海军; 孙信涛; 沈国立

申请日

Jul 13, 2026

公开日

Oct 20, 2026

IPC 分类

C21D 9/40 (2006.01)C21D 1/18 (2006.01)C21D 11/00 (2006.01)

本发明公开了一种轴承零件残余奥氏体控制与碳氢清洗一体化方法及装置,属于轴承热处理后处理技术领域。所述方法在 80~150 Pa 的真空密封腔体内,交替注入 5~12℃冷碳氢清洗液与 90~110℃热碳氢清洗液,每段浸泡 25~35 分钟,进行 2~4 个冷热交替循环;冷液阶段同步实现残余奥氏体控制与初步清洗,热液阶段完成深度清洗,循环结束后经真空干燥出料。所述装置包括密封清洗腔体、真空系统、冷液循环系统、热液循环系统及自动控制系统,可自动完成全流程处理。本发明将残奥控制与清洗工序集成合一,提升生产效率,保障残奥控制精度,全程真空避免零件氧化,清洁度好,表面无碳黑油污,减少因抛丸等带来的环境污染,碳氢液密封循环大幅减少废水排放,节能环保,适用于各类轴承零件淬火后的后处理工序。

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