一种低氧含量钨涂层的制备方法和系统

本发明涉及热喷涂表面工程技术领域，具体涉及一种低氧含量钨涂层的制备方法和系统。方法：将呈熔融或近完全熔融状态的钨粉颗粒沉积于基体表面，形成初始钨沉积层，随后于初始钨沉积层表面重复执行钨颗粒沉积过程，形成低氧含量钨涂层；每一次钨颗粒沉积前，采用连续激光系统对基体或已沉积钨层表面进行原位瞬时加热。本发明通过激光原位去氧化辅助大气等离子喷涂技术，解决了现有大气等离子喷涂钨过程中钨颗粒飞行氧化严重、已沉积钨层表面氧化膜造成涂层氧含量高、层间冶金结合不足及内聚强度低的问题，同时克服了采用真空等离子喷涂或低压等离子喷涂设备系统复杂、制造与运行成本高、构件尺寸受限、工艺灵活性差及工程适应性不足的缺陷。