加热器支承部以及化学气相沉积装置

本发明涉及一种加热器支承部以及化学气相沉积装置，更详细地涉及一种可以均匀地加热被安放基板的基座的化学气相沉积装置。化学气相沉积装置具备：腔体，容纳基板；基座，设置于所述腔体的内侧，并被安放所述基板或者用于安放所述基板的卫星盘，并且加热所述基板；加热器，设置于所述基座的下方，并具有朝向所述基座的中央部形成多个匝且缠绕的螺旋形形状，并且加热所述基座；以及加热器支承部，支承所述加热器，并能够调节所述加热器的所述多个匝中的相邻的所述匝之间的间隔。