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磁流体密封装置及化学气相沉积设备
发明专利未知
10权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
曹建伟; 刘毅; 傅林坚; 朱亮; 张磊; 龚碧瑶; 杨斌
申请日
Apr 14, 2025
公开日
Oct 20, 2026
IPC 分类
F16J 15/43 (2006.01)F16J 15/16 (2006.01)C23C 16/44 (2006.01)
本发明属于半导体加工技术领域,公开了磁流体密封装置及化学气相沉积设备,磁流体密封装置包括旋转电机及从轴心由内至外依次设置的内轴套、外轴套和基座轴套,内轴套和外轴套之间设有第一磁流体结构,外轴套和基座轴套之间设有第二磁流体结构,旋转电机驱动外轴套旋转,基座轴套用于连接被密封件,内轴套和外轴套之间设有第一轴承结构,外轴套和基座轴套之间设有第二轴承结构;第一轴承结构包括沿内轴套的轴向间隔设置的两个第一轴承体,第二轴承结构包括沿轴向间隔设置的两个第二轴承体,第一磁流体结构设置于两个第一轴承体之间,和/或,第二磁流体结构设置于两个第二轴承体之间。本发明通过上述设置提高磁流体密封装置的通用性和安装便利性。
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