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光学晶体油浴退火炉调控系统及方法
发明专利未知
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10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
刘洋; 王晶鑫; 李豪; 冯薇娜; 张辉; 郑丽丽; 韩秀明; 孙彦勐
申请日
Aug 19, 2026
公开日
Oct 20, 2026
IPC 分类
G05B 19/042 (2006.01)
本发明公开了一种光学晶体油浴退火炉调控系统及方法,属于光学晶体制备设备技术领域。该光学晶体油浴退火炉调控系统包括搅拌机构和外循环系统,还包括:晶体旋转机构,包括晶体支架和旋转驱动部,晶体支架设于炉腔内,在旋转驱动部的驱动下,晶体支架绕内炉筒的轴向进行自转;螺旋形导流筋板将内炉筒外壁与外炉筒内壁之间的空间分隔为螺旋形流道;传感检测模块用于检测包含炉腔内导热油的实时油温值和实时液位值、螺旋形流道内导热油实时流量值、搅拌桨和晶体支架的实时转速值的实时参数;控制器用于根据实时参数控制搅拌机构、旋转驱动部、外循环系统和加热单元动作。本发明的光学晶体油浴退火炉调控系统,大幅提升炉腔内全域温场均匀性。