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半导体设备的混合溶液的浓度控制方法和半导体工艺设备

发明专利未知
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10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

朱朝月

申请日

Jun 30, 2026

公开日

Oct 20, 2026

IPC 分类

G05D 21/02 (2006.01)H10P 72/00 (2026.01)

本发明实施例提供了一种半导体设备的混合溶液的浓度控制方法和半导体工艺设备,通过根据各种监测对象的影响关系对多种监测对象进行分组,将复杂的多组分解耦,避免了单一估算方式的局限性;通过针对第一类型监测对象采用基于自身消耗情况与补充情况进行补充,针对第二类型监测对象其补充量不仅考量自身的消耗与补充,也考虑了第一类型的监测对象的补充情况;当补充第一类型引起溶液体积波动或主盐浓度变化时,第二类型的补液量会随之进行动态修正,从而有效消除了第一类型的监测对象的补入对第二类型的监测对象造成的稀释效应或比例失调;本发明将各种单独的监测对象关联为动态关联的整体,实现了多组分间的实时平衡,提升了药液配比的精度和工艺一致性。

§ Ⅵ

专利附图

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