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基于降深响应的基坑止水帷幕局部渗漏识别方法及装置
发明专利未知
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10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
陈东霞; 袁俊伟; 郝庆军; 袁博; 沈志; 周建峰
申请日
Sep 17, 2026
公开日
Oct 20, 2026
IPC 分类
G06F 18/20 (2023.01)E02D 19/18 (2006.01)G06F 18/22 (2023.01)G01M 3/04 (2006.01)
本发明公开了一种基于降深响应的基坑止水帷幕局部渗漏识别方法及装置,涉及土木工程基坑工程领域,包括:根据每组候选渗漏参数将基坑非稳定渗流计算模型的内边界沿深度方向划分为止水帷幕的完好无漏段、局部渗漏段和坑内抽水段,设置不同深度的内边界的分段通量条件,计算各组候选渗漏参数对应的有渗漏工况下的坑外水位降深,以及相同抽水条件下的无渗漏工况下的坑外水位降深,并计算得到附加降深;根据坑外水位监测数据获得实测异常降深;将附加降深与实测异常降深进行匹配,确定目标渗漏参数;根据目标渗漏参数确定止水帷幕的局部渗漏段的预测深度范围和预测渗漏强度。本发明解决难以区分坑内正常抽水影响和止水帷幕的局部渗漏影响的问题。