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面向VCSEL外延生长的反应腔有限元仿真优化方法
发明专利未知
9权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
龚平; 卞海蛟; 侯宏波; 史康桥; 韩洋佳; 王元
申请日
Sep 16, 2026
公开日
Oct 20, 2026
IPC 分类
G06F 30/23 (2020.01)G06F 119/08 (2020.01)
本发明涉及有限元仿真数据处理领域,公开一种面向VCSEL外延生长的反应腔有限元仿真优化方法。方法包括:读取原、目标有限元网格、晶圆表面边界及原网格温度场和反应物浓度场数据,在中心距离大于零的晶圆邻近节点中识别局部极值节点并建立原中心至边缘参考关系;生成目标网格基准场数据,按原、目标中心距离间隔换算参考场值差,仅在局部极值衰减且目标局部场值差小于参考场值差时形成局部失真记录,并对记录中的目标网格节点进行受原局部值域限制的修正,输出目标网格修正温度场数据和目标网格修正反应物浓度场数据。本发明能够减少与晶圆片内分布无关的节点调整,使修正温度场和反应物浓度场更适于片内分布分析。
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