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一种12寸晶圆远程等离子体去胶设备及去胶方法
发明专利未知
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6权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
朱磊; 刘东祥; 沈大勇
申请日
Jun 25, 2026
公开日
Oct 20, 2026
IPC 分类
H01J 37/32 (2006.01)H10P 50/28 (2026.01)H10P 72/00 (2026.01)
本发明提供了一种12寸晶圆远程等离子体去胶设备及去胶方法,所述设备包括:真空腔体系统、三级匀流与精密温控系统以及晶圆承载与双区温控系统。本方案中,通过远程自由基产生与低损伤传输、三级匀流与精密温控、栅格复杂多级孔洞主动均流、热盘侧出线及双区加热等设计,能够解决了现有技术中均匀性差、损伤风险高、可靠性不足的问题,有利于实现整片12寸晶圆的均匀、低损伤、高可靠性去胶。
§ Ⅵ
专利附图
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