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GaSb基量子阱外延结构及其制备方法

发明专利未知
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10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

尚金铭; 王玮竹

申请日

Jul 22, 2026

公开日

Oct 20, 2026

IPC 分类

H01S 5/343 (2006.01)H01S 5/20 (2006.01)

本发明提供了一种GaSb基量子阱外延结构及其制备方法。外延结构包括GaSb衬底;有源区,位于GaSb衬底之上,至少一个阱层,阱层为由InAs层和InGaSb层构成的数字合金结构,且InAs层与InGaSb层的厚度比例沿生长方向渐变,以使阱层具有非矩形能带轮廓;以及第一数字合金波导层和第二数字合金波导层,形成于有源区两侧,均由多个第一周期单元和多个第二周期单元交替堆叠而成,第一周期单元依次包含第一AlSb层、AlAs层和第二AlSb层,第二周期单元为中间AlSb层。本申请通过阱层的非矩形能带轮廓有效进行应变补偿或抑制弛豫,并实现波长的精准调控,同时通过AlSb/AlAs/AlSb数字合金结构增强了对空穴的限制,降低了阈值电流密度,提升了器件性能。