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半导体器件及半导体器件制备方法
发明专利未知
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§ Ⅰ
卷宗概要
IPC 分类
H10D 30/62 (2025.01)H10D 64/00 (2025.01)H10D 30/01 (2025.01)
本申请涉及半导体器件技术领域,具体提供一种半导体器件及半导体器件制备方法,旨在解决如何兼顾对半导体器件的阈值电压动态调节与沟道电场主动调节的问题,为此目的,本申请的半导体器件包括:半导体基板,该半导体基板包括鳍型结构,随形覆盖鳍型结构的栅极结构,以及,覆盖栅极结构侧壁的栅极隔离侧墙结构和辅助电极。该半导体器件通过在其栅极结构侧壁依序形成栅极隔离侧墙结构和辅助电极,辅助电极通过栅极隔离侧墙结构与沟道形成横向耦合电容,可构成兼具阈值电压调控与动态场板双重功能的半导体器件。