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低压PNP结构的ESD器件

发明专利未知
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8权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

范炜盛

申请日

Jul 1, 2026

公开日

Oct 20, 2026

IPC 分类

H10D 89/60 (2025.01)H10D 62/10 (2025.01)

本发明公开了一种低压PNP结构的ESD器件,在一半导体衬底中包含有N阱,在所述的N阱中衬底表面处具有多个STI隔离结构,在多个所述的STI隔离结构之间所形成的隔离区域的衬底中具有多个重掺杂P型区;在最外围靠近N阱边缘的STI隔离结构之间为重掺杂N型区;所述的最外围的重掺杂N型区与距其最近的重掺杂P型区短接引出形成高电位端口,位于N阱中心区域的多个重掺杂P型区,以交替间隔的方式分别接高电位端口和低电位端口;所述的N阱中的多个重掺杂P型区,所有接低电位端口的重掺杂P型区下方还具有N型掺杂区;所述的ESD器件的击穿电压可通过所述N型掺杂区的掺杂浓度进行调整。

§ Ⅵ

专利附图

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