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一种TOPCon电池的制备工艺

发明专利未知
10权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

陈浩; 吴伟梁; 张漫江

申请日

Jun 26, 2026

公开日

Oct 20, 2026

IPC 分类

H10F 71/00 (2025.01)H10P 32/14 (2026.01)

本发明公开了一种TOPCon电池的制备工艺,包括如下步骤:步骤S1:硅片表面制绒;步骤S2:第一次硼扩散,步骤S3:图形化光刻;步骤S4:再次制绒;步骤S5:第二次硼扩散;步骤S6:链式去除绕镀硼硅玻璃并进行背面碱抛光;步骤S7:制备背面隧穿氧化层与掺磷多晶硅层;步骤S8:高温退火处理;步骤S9:链式去除磷硅玻璃结合标准清洗;步骤S10:依次进行原子层沉积氧化铝镀膜、PECVD沉积减反射膜、丝网印刷烧结制备金属电极,制得成品电池。本发明提供一种TOPCon电池的制备工艺,实现掺杂浓度分区。

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