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背接触电池及其制备方法

发明专利未知
20权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

肖奇

申请日

Apr 11, 2025

公开日

Oct 20, 2026

IPC 分类

H10F 77/20 (2025.01)H10F 77/70 (2025.01)H10F 77/30 (2025.01)H10F 71/00 (2025.01)H10F 71/10 (2025.01)

本发明公开了一种背接触电池及其制备方法,所述背接触电池包括硅衬底,所述硅衬底包括相对设置的第一表面和第二表面,所述第二表面上设有间隔分布的第一掺杂结构和第二掺杂结构,所述第一掺杂结构包括第一掺杂层,所述第二掺杂结构包括第二掺杂层,所述硅衬底的第一表面形成有第三掺杂层,所述第一掺杂层与所述第二掺杂层掺杂类型相反,所述第三掺杂层与所述第二掺杂层及所述硅衬底的掺杂类型相同。提高了正面的场钝化效果,同时通过扩散工艺实现正面吸杂,减少了电池内部的体复合,提高了开路电压Voc和电流密度Jsc,填充因子FF和电池效率Eff得到了有效提升。

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