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监测焦斑

发明专利未知
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15权利要求 · 8 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

G·福格特米尔; H·德尔

申请日

Feb 27, 2025

公开日

Oct 20, 2026

IPC 分类

G21K 1/02 (2006.01)G01N 23/046 (2006.01)

本发明涉及一种X射线成像系统(100)。X射线成像系统包括:X射线源(110),其用于在X射线焦斑(116)处产生X射线辐射(118);探测器(120),其包括用于探测来自X射线源(110)的X射线辐射(118)的探测器像素(122);防散射栅格(130),其位于X射线源(110)与探测器(120)之间,其中,防散射栅格(120)包括与探测器像素对准的栅格单元。根据本发明,大多数栅格单元是朝向共同聚焦区聚焦的聚焦栅格单元(132),其中,栅格单元中的至少一个栅格单元是监测栅格单元(134),其中,监测栅格单元(134)朝向不同于共同聚焦区的聚焦区聚焦;并且处理单元(140)被配置为从探测器像素(122)读出探测器信号,其中,处理单元(140)被配置为通过分析探测到的透射穿过监测栅格单元(134)的X射线辐射(118)来确定焦斑的变化。

§ Ⅵ

专利附图

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