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气体供给装置、气体供给系统及气体供给方法

发明专利未知
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

高洋志; 清水秀治; 岩本龙弥; 和田吉史

申请日

Apr 24, 2025

公开日

Oct 20, 2026

IPC 分类

H10P 72/00 (2026.01)H10P 14/24 (2026.01)

提供一种能够在使用工业气体的现场产生并稳定供给该工业气体的气体供给装置、气体供给系统和气体供给方法。气体供给装置包括由含有原料气体成分的原料气体获得产品气体的处理部、向处理部供给原料气体的管道、以及从处理部送出产品气体的管道。