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一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法和应用
发明专利未知
10权利要求 · 3 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
谭鸿恺; 赵润强; 黄辉; 吴斌; 陈波; 周小龙
申请日
Aug 24, 2026
公开日
Oct 27, 2026
IPC 分类
C03C 17/36 (2006.01)
本申请提供了一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法和应用。所述低辐射镀膜玻璃包括玻璃基材以及设置在所述玻璃基材表面的复合镀层,所述复合镀层沿远离所述玻璃基材的方向依次包括第一复合层、吸收层、第二复合层和保护层;其中,所述吸收层沿远离所述玻璃基材的方向依次包括第一阻挡层、金属吸收层和第二阻挡层;所述第一复合层沿远离所述玻璃基材的方向依次包括底层介质组合层和第一功能层;所述第二复合层沿远离所述玻璃基材的方向依次包括第二功能层和顶层介质组合层。本申请提供的低辐射镀膜玻璃具有高透过率的同时具备反射率低、辐射率低等特性,满足产品使用需求,便于规模化生产以及推广应用。
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