CNIPA.AI
返回搜索
档案

一种硅碳负极回转炉CVD包覆设备

发明专利未知
10权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

代春龙; 魏明勇

申请日

Sep 21, 2026

公开日

Oct 27, 2026

IPC 分类

C23C 16/26 (2006.01)C23C 16/455 (2006.01)C23C 16/458 (2006.01)C23C 16/46 (2006.01)C23C 16/52 (2006.01)F27B 7/14 (2006.01)F27D 7/06 (2006.01)

本发明涉及锂电池硅碳负极材料制备设备技术领域,具体提供了一种硅碳负极回转炉CVD包覆设备,包括设备机架、旋转炉管、保温炉膛、动力旋转机构、气体投加系统、加热系统和冷却系统,旋转炉管通过动力旋转机构与设备机架转动连接,旋转炉管整体倾斜设置且旋转炉管的进料端高于出料端,保温炉膛包覆安装于旋转炉管外,保温炉膛与设备机架固定连接,气体投加系统用于向旋转炉管内输送多种气体,加热系统用于加热旋转炉管,冷却系统用于对旋转炉管进行降温,在进气端各类工艺气体先完成均匀混合再通过导气管送入炉内,配合弧形扬料板组成的翻料机构,实现混合气体与粉体原料全方位充分接触,有效提升工艺气体利用率与整体生产效率。

登录后阅读全文

已显示权利要求 1。免费注册即可阅读全部 10 项权利要求、说明书全文、全部附图、翻译和法律状态。

  • 全部权利要求
  • 技术领域
  • 背景技术
  • 发明内容
  • 附图说明
  • 具体实施方式