改善原子层沉积腔体工艺稳定性的方法及加热底座

本发明提供一种改善原子层沉积腔体工艺稳定性的方法及加热底座。该方法包括：提供包含多个独立控制的加热分盘的加热底座，加热分盘表面设有凸点；将基底传输至加热底座上方；分别调节加热分盘以改变凸点伸出加热底座表面的高度，使凸点与基底背面接触；在基底上进行薄膜沉积工艺。本发明通过采用可独立改变接触凸点高度的分块模块化加热底座，能够灵活精准地匹配实际热场分布，有效改善加热底座局部热传递效率不均匀的问题，从而显著提升薄膜沉积厚度的均匀性，并改善了原子层沉积腔体工艺的整体稳定性，同时减少了设备维护耗时。