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一种基于原位缺陷愈合的碳化硅晶体退火方法及系统

发明专利未知
10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

何昌; 李俊峰; 师云鹏; 冯海科

申请日

Jul 30, 2026

公开日

Oct 27, 2026

IPC 分类

C30B 33/02 (2006.01)C30B 29/36 (2006.01)G01N 21/84 (2006.01)G01B 11/24 (2006.01)G01N 21/65 (2006.01)G01N 23/2273 (2018.01)G01N 23/2251 (2018.01)G01Q 60/24 (2010.01)

本发明涉及碳化硅技术领域,尤其涉及一种基于原位缺陷愈合的碳化硅晶体退火方法及系统,包括:对原始碳化硅衬底进行缓冲层构建,得到缓冲碳化硅晶体,利用退火任务评价函数构建最优退火参数集,基于最优退火参数集对缓冲碳化硅晶体进行缓冲层暴露判别,得到暴露判别结果,根据暴露判别结果对缓冲碳化硅晶体进行暴露处理,得到待退火碳化硅晶体,利用最优退火参数集对待退火碳化硅晶体进行缓冲层退火处理,得到目标碳化硅晶体。本发明可提高退火参数与退火任务目标的匹配度,降低退火后碳化硅晶体的缺陷密度。

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