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一种光学干涉表面形貌测量方法、半导体测量系统和存储介质

发明专利未知
15权利要求 · 3 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

袁明波; 杨东; 马砚忠; 陈鲁

申请日

Dec 31, 2025

公开日

Oct 27, 2026

IPC 分类

G01B 11/25 (2006.01)

本申请提供一种光学干涉表面形貌测量方法、半导体测量系统和存储介质,该测量方法通过根据获取到的被测物体表面区域的包裹相位图生成对应的有效区域二值掩膜;利用有效区域二值掩膜对包裹相位图在两个正交方向上的相位梯度场进行加权处理;在梯度域中,对加权后的梯度场进行相位解包,以获得解包后的连续梯度场;最后在有效区域二值掩膜的约束下,迭代求解根据解包后的连续梯度场构建的泊松方程,重建出被测物体表面区域的连续解包相位分布,进而实现被测物体的表面三维形貌的测量。本申请克服了在高梯度、大形变区域因相位跳变过于密集而导致的解包路径错误与误差传播难题,显著提升了对复杂表面形貌测量的鲁棒性、精度与适用范围。

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