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一种高频低介损的正性光敏聚酰亚胺树脂胶液及制备方法

发明专利未知
9权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

曾彩萍; 杨进平; 张俊武; 杨士勇

申请日

Sep 9, 2026

公开日

Oct 27, 2026

IPC 分类

G03F 7/039 (2006.01)C08G 73/10 (2006.01)

本发明涉及高分子材料技术领域,具体涉及一种高频低介损的正性光敏聚酰亚胺树脂胶液及制备方法。本发明通过在第一含酚羟基聚酰胺酸酯树脂的主链结构中引入具有不同链长度的含酯基脂肪链段或含酯基芳环链段,以降低树脂的高频下介电常数及介电损耗,同时增加树脂柔顺性,并保持足够的耐热性;将第一酚羟基聚酰胺酸酯与第二含酚羟基聚酰胺树脂通过复配形成复合树脂体系,使含酯基脂肪链段或含酯基芳环链段的低介电损耗性与酚羟基的碱性水溶性产生协同作用,有效解决了正性光敏树脂的高频低介损性与高光刻工艺性及高抗化性等相互制约的难题,实现了高频低介损性、高光刻分辨率、高铜面粘结性及优良综合力学性能的协同技术效果。

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