聚焦环电压控制方法、装置及半导体工艺设备

本发明提供一种聚焦环电压控制方法、装置及半导体工艺设备，该方法包括：响应于向下电极加载射频信号的控制指令，基于采样周期执行采样流程；每一个采样周期中包括依次执行的采样阶段和施加阶段；在采样阶段控制用于向聚焦环加载电压的直流电源关闭，并对聚焦环的电压进行采样，获得采样电压，且根据采样电压获得目标电压；在施加阶段控制直流电源向聚焦环加载的电压等于目标电压；采集聚焦环的实际电压，比较实际电压与目标电压；根据比较结果调节并更新目标电压，在当前采样周期的施加阶段或下一采样周期的施加阶段，控制直流电源向聚焦环加载的电压等于更新后的目标电压。本方案可以不断减小实际电压与目标电压的偏差，提高工艺结果准确性。