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一种制造手机背盖的工艺方法

发明专利未知
10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

柏益南; 何勇

申请日

Jul 29, 2026

公开日

Oct 27, 2026

IPC 分类

H04M 1/02 (2006.01)B32B 33/00 (2006.01)B32B 27/30 (2006.01)B32B 27/08 (2006.01)B32B 27/36 (2006.01)B41M 3/06 (2006.01)B05D 1/02 (2006.01)B05D 3/06 (2006.01)B05D 3/02 (2006.01)

本发明公开了一种制造手机背盖的工艺方法,属于3C复合材料后盖制造技术领域。该方法包括:采用0.5mmPMMA+PC板作为母体,其PC侧依次进行纳米纹理转印、NCVM镀膜和盖底油墨印刷;采用2.0mmPMMA+PC板作为子体,其PMMA面进行UV淋涂加硬处理,并在摄像头区域贴附耐高温保护膜,该保护膜在后续CNC及研磨工序中全程保留;通过UV结构胶将子体PC面与母体PMMA面对位贴合,经真空压合与同步UV固化形成一体毛坯;再依次进行贴合界面过渡圆弧CNC精铣、平面研磨去刀痕、全域准分子喷涂,最后撕膜固化,制得主体为准分子亲肤哑光、摄像头区域为高光耐磨的手机背盖。本发明具有材料损耗低、效率高、良率高、表面质感优异、可实现差异化效果等优点,适合规模化生产。

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