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一种基于离子注入还原的氧化镓PIN二极管及制备方法

发明专利未知
10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

韩仕达; 吕元杰; 王元刚; 刘宏宇; 韩婷婷; 敦少博; 冯志红

申请日

Aug 15, 2025

公开日

Oct 27, 2026

IPC 分类

H10D 8/01 (2025.01)H10D 8/50 (2025.01)H10D 62/00 (2026.01)H10D 62/10 (2025.01)H10D 62/80 (2025.01)H10P 30/20 (2026.01)H10P 30/28 (2026.01)

本发明提供一种基于离子注入还原的氧化镓PIN二极管及制备方法,涉及氧化镓器件技术领域。本发明能够通过将重掺杂n型氧化镓衬底作为N层,在重掺杂n型氧化镓衬底上制备I层,在I层上进行p型离子注入,并利用还原性气体高温退火激活注入离子实现p型掺杂,得到P层。还原性气体通过还原反应将氧化镓内的氧原子析出,使注入的p型离子占据氧的晶格格点,并夺取镓原子的电子,形成空穴,实现p型离子注入掺杂,降低p型掺杂氧化镓制备难度。再制备阴极电极、阳极电极,降低氧化镓PIN二极管的制备难度。

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